水芹菜生长适宜温度

　　　　在高温季节栽培水芹常出现浮芹现象，表现为水芹连根浮出水面，根系生长量小，黑根和锈根多，造成较大的损失。

　　　　经调查分析，为培肥芹池底泥，提高水芹的品质，芹田都非常注重有机肥的投入，每亩施猪粪等有机肥达2000公斤，高温期间芹池中的有机物质高强度厌氧发酵，会产生大量有毒物质对水芹根系造成毒害，限制根系的生长和下扎。随着芹池水层的建立，水芹根系与底泥之间的拉力抵消不了水体对水芹的浮力，便产生浮芹现象。针对诱发原因，生产上预防浮芹现象的发生，可采取以下措施。

　　　　有机肥充分发酵　在水芹排种前20天左右准备好有机肥，先堆制进行有氧发酵10天左右，期间翻堆2~3次，使腐熟度一致，再施入田中进行厌氧发酵10天左右，并利用旋耕机将其与底泥充分拌和，使有机肥在底泥中分布均匀。

　　　　撒入适量石灰　长期种水芹的芹池底泥pH值偏低，积累了较多的有毒物质，限制了水芹根系的生长。结合芹池底泥培肥施入适量生石灰，调节底泥pH值，能有效降低底泥中有害物质含量，改善底泥的结构。

　　　　提高烤田质量　在水芹生长量达10厘米以上，匀苗结束后，应脱水烤田，使底泥中的有毒气体得以释放，浮泥沉实，促进根系下扎。烤田时应开好芹池四周和田内沟，沟间距3米左右，以保证烤田质量。烤田标准为沟边有小裂纹，浮泥板实，不发白。如遇连阴雨不能及时烤田或烤田质量不达标时，可通过勤脱水露田来改善底泥供气状况。

　　　　喷施促根物质　结合脱水烤田或露田喷施促进根系生长的物质。

　　　　增设遮阳设施　气温达30℃以上时，在芹池上方增设50%遮光率的遮阳网，以降低芹池水温，抑制芹池底泥厌氧发酵强度，促进水芹生长。

　　　　水芹田间如出现浮芹现象，应及时脱水，将上浮植株回插入田中，保持田间湿润，待新生根系长出后适时烤田。如上浮芹菜已有一定生长量，在种苗充足的情况下，也可将浮芹进行净菜加工上市，并及时补种。