甜瓜保护地栽培的种植方式 1、直立栽培:主蔓沿架条或吊绳垂直向上引缚,一般采用畦宽为1米的高畦双行定植,畦间距0.5米,畦上行距0.4~0.6米,畦间行距0.9~1.0米,株距0.4米,每亩保苗2000株左右。结果部位在主蔓8~12节前后的子蔓上最好,每株1~2果,主蔓24~30节处摘心。 2、半直立栽培:在甜瓜生育初期同爬地栽培一样引蔓爬行,达到预定节位后再沿架条或吊绳直立引缚。半直立栽培综合了爬地裁培和直立栽培的优点,适于较低的温室、大棚的边沿部位栽培。果用半直立栽培时,生育初期保护地近地面温度高,小气候条件好;生育后期保护地内气温已普遍提高,此时植株已直立上架,可改善通风环境。 半直立栽培整枝方式有两种: ①单蔓整枝。是将主蔓沿地表爬行,到达预定的位置再起立上架。如单坡温室的南边较低,田间作业不便,采用直立单干整枝栽培,先将苗定植在温室低处的边行上,植株伸蔓后引其向北爬行一段再上架,这样田间作业就方便了。也有采用先直立引缚达一定高度后再水平爬行,结果部位与留果数同直立栽培。 ②双蔓整枝。是在主蔓3~4片叶时摘心,选取留2条健壮子蔓向行的两侧引导爬行,到达预定位置后再垂直引缚,结果部位在子蔓8~10节的孙蔓第1节,留果每株2~4个。这种方法的优点是,植株根系的分布是一行,而枝蔓所占的空间是两行,减少了甜瓜根系在土壤中的分布范围,为下年倒茬留有余地。有些保护地里作物倒茬困难,甜瓜又不适于连作,采用上述方法可以使定植行逐年错开,可在同一地里连续多年种植甜瓜。 3、爬地栽培:适于地膜覆盖、小拱棚和温室、大棚内的甜瓜省工或大果形的厚皮甜瓜栽培。 |
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